특허청, 패션디자인 보호를 위한 ‘2016 디자인보호포럼-서울’ 개최…패션디자이너를 위한 다양한 지식재산권 정보 제공

[헤럴드경제(대전)=이권형 기자] 특허청(청장 최동규)은 (재)서울디자인재단과 공동으로 30일 서울 동대문디자인플라자(DDP) 나눔관에서 ‘2016 디자인보호포럼-서울(부제 : Fit your Design right!)’을 개최한다.

이번 포럼은 패션업계의 최근 모방 실태를 진단하고 대안을 모색하는 한편, 패션업계의 글로벌 진출을 위해 패션디자이너들이 숙지해야 할 지식재산권 정보들을 소개키 위한 자리다.

주요 내용은 ▷패션디자인의 모방 유형과 원인, 특징 등 실태 분석 ▷패션디자인의 효과적인 권리확보 및 분쟁대응 전략 ▷패션디자인의 트렌드 변화에 따른 법적 이슈 ▷패션디자인 보호에 관한 외국사례 및 대안적 제도 모색 등이며, 해당분야 전문가들의 주제발표와 패널토의로 진행될 예정이다.


디자이너, 학생, 기업 담당자 등 패션디자인의 권리보호에 관심있는 사람이라면 누구나 디자인맵(designmap.or.kr)을 통해 무료로 참가 신청할 수 있으며, 현장에서 패션디자인 권리보호에 관한 다양한 의견을 청취하고, 질의응답을 통해 궁금증도 해소한다.

특허청 최규완 상표디자인심사국장은 ‘이번 포럼을 통해 최근 패션업계의 일부 무분별한 모방 행위에 대해 경각심을 불러 일으키고, 패션디자이너들이 지식재산권을 올바르게 인식함으로써 패션업계의 건전한 창작 생태계 조성에 도움이 되기를 바란다’ 고 밝혔다.

한편, 특허청은 하반기에도 광주디자인센터, 대구경북디자인센터 및 부산디자인센터와 함께 지역 순회포럼을 개최하여 디자인 권리보호 인식을 지속적으로 확산할 예정이다.

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