지재처.

[헤럴드경제= 이권형기자] 지식재산처(처장 김용선)는 급변하는 반도체 기술 패권 경쟁 시대에 우리 기업들이 고품질의 특허를 조기에 확보할 수 있도록 반도체 분야의 특허 판단 기준을 제시한 ‘반도체 분야 특허 심사실무가이드’를 제정해 배포한다.

반도체 산업은 EUV(극자외선) 노광공정, 비정질 탄소 하드마스크, HBM, 차세대 AI 반도체(NPU, PIM) 등 미세화·집적화·고속화가 급격히 진행되고 있어 반도체 산업 특성을 반영한 특허심사가 필요하다는 산업계의 목소리가 높았다.

지식재산처는 특허성 판단에 대한 명확한 기준 제시가 필요하다는 반도체 현장의 의견을 반영해 실제 심사사례 중 다빈도 사례를 발굴·엄선하고 특허성 판단 조문별·유형별로 구분하여 ‘반도체 분야 특허 심사실무가이드’를 제정했다.

심사실무가이드는 크게 발명의 설명 기재요건, 청구범위 기재요건, 진보성 등 특허요건 등 세 가지 핵심 사항에 대한 구체적인 특허성 판단 기준을 담고 있으며 각 유형의 실제 반도체 분야 심사사례를 선별해 판단 방법을 제시했다. 이외에도 반도체 분야에서 자주 발생하는 ‘제조방법 한정에 따른 물건(PBP: Product by process) 청구항’의 특허성 판단 방법도 담았다.

지식재산처는 이번 반도체 분야 특허 심사실무가이드를 지식재산처 누리집을 통해 배포하고, 반도체 분야 산·학·연 등 관계자의 이해도를 제고키 위해 오는 4월에 반도체 IP 협의체를 대상으로 설명회를 개최할 예정이다.

지식재산처 김희태 반도체심사추진단장은 “이번 반도체 분야 특허 심사실무가이드 제정으로 심사 일관성을 높이고, 우리 반도체 기업들이 고품질 특허를 확보할 수 있을 것”이라며 “지식재산 전략 수립을 위한 여력이 없던 팹리스 및 소재·부품·장비 기업 등 중소·중견 기업들이 고품질 명세서를 작성하는 데 실질적인 지침서 역할을 할 것으로 기대한다”고 말했다.